一、概念理解
1、n型半导体：又称为电子型半导体。在纯净的硅晶体中通过特殊工艺掺入少量的五价元素（如磷、砷、锑等）而形成，其内部自由电子浓度远大于空穴浓度。所以，n半导体内部形成带负电的多数载流子——自由电子，而少数载流子是空穴。n型半导体主要靠自由电子导电。由于自由电子主要由所掺入的杂质提供，所以掺入的五价杂质越多，自由电子的浓度就越高，导电性能就越强。而空穴由热激发形成，环境温度越高，热激发越剧烈。
2、p型半导体：又称为空穴型半导体。在纯净的硅晶体中掺入三价元素（如硼）而形成，其内部空穴浓度远大于自由电子浓度，所以，p型半导体内部形成带正电的多数载流子——空穴，而少数载流子是自由电子。p型半导体主要靠空穴导电。由于空穴主要由所掺入杂质原子提供，掺入三价的杂质越多，空穴的浓度就越高，导电性能就越强。而自由电子是由热激发形成，环境温度越高，热激发越激烈。
3、pn结及特性：p型和n型半导体接触时，在界面附近空穴从p型半导体向n型半导体扩散，电子从n型半导体向p型半导体扩散。空穴和电子相遇而复合,载流子消失。因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子，却有内建一个由n区指向p区的内电场。由于内电场是由多子建成，所以达到平衡后，内建电场将阻挡多数载流子的扩散，但不能阻止少数载流子。p区和n区的少数载流子一旦接近pn结，便在内电场的作用下漂移到对方。ｐｎ结的单向导电性外加正向电压（正偏）：在外电场作用下，多子将向ｐｎ结移动，结果使空间电荷区变窄，内电场被削弱，有利于多子的扩散而不利于少子的漂移，扩散运动起主要作用。结果，ｐ区的多子空穴将源源不断的流向ｎ区，而ｎ区的多子自由电子亦不断流向ｐ区，这两股载流子的流动就形成了ｐｎ结的正向电流。外加反向电压（反偏）：在外电场作用下，多子将背离ｐｎ结移动，结果使空间电荷区变宽，内电场被增强，有利于少子的漂移而不利于多子的扩散，漂移运动起主 要作用。漂移运动产生的漂移电流的方向与正向电流相反，称为反向电流。因少子浓度很低，反向电流远小于正向电流。当温度一定时，少子浓度一定，反向电流几 乎不随外加电压而变化，故称为反向饱和电流。
4、扩散和漂移：多数载流子移动时扩散，少数载流子移动时漂移。
5、复合：电子和空穴相遇就会复合，大量的电子-空穴对复合就形成电流。
6、空间电荷区：也称耗尽层。在pn结中，由于自由电子的扩散运动和内电场导致的漂移运动，使pn结中间的部位(p区和n区交界面)产生一个很薄的电荷 区，它就是空间电荷区。在这个区域内，多数载流子已扩散到对方并复合掉了，或者说消耗殆尽了，因此，空间电荷区又称为耗尽层。p区一侧呈现负电荷，n区一侧呈现正电荷，因此空间电荷区出现了方向由n区指向p区的内电场。内电场将阻碍多子的扩散，而少子一旦靠近pn结，便在内电场的作用下漂移到上方。pn结正偏时，内电场减弱，有利于多子的扩散而不利于少子的漂移。pn结反偏时，扩散运动使空间电荷区加宽，内电场增强，有利于少子的漂移而不利于多子的扩散。
7、内电场：pn结附近空间电荷区中，方向由n区指向p区的内电场。内电场对多数载流子起隔离作用，而对少数载流子起导通作用。
8、载流子：可以自由移动的带有电荷的物质微粒，如电子和离子。金属中为电子，半导体中有两种载流子即电子和空穴。
9、少数载流子：p型半导体地少数载流子是自由电子，n型半导体中是空穴。
10、二极管：单向导电性。正偏多数载流子可以通过，反偏少数载流子可以通过。反偏时p型半导体和n型半导体不能提供源源不断的少数载流子，所以反偏近似无电流。
二、三极管的工艺要求及作用
1、发射区掺杂浓度高：确保发射区中有足够多的多数载流子——电子，当基极电压高于发射极的时候，才有足够多的电子扩散到基极。
2、基区做得非常薄：可以更好的让基极（p型半导体）中的少数载流子——电子漂移到集电极。
三、工作条件
1、集电极电压（vc）大于基极电压（vb），基极电压（vb）稍高于发射极电压（ve）。即：vc>vb>ve，其中vb一般高于ve为0.7v；vc常见电压比ve高12v。这样就使得集电结反偏，发射结正偏。
2、如要取得输出必须加负载电阻。
四、三极管的工作原理
见附图
五、关于三极管的问题
1、集电极（c极）处于反偏状态，为什么还有电流通过？答：pn结正偏情况下是利于“多数载流子”通过，而反偏则利于“少数载流子”通过，对于基极（b极）来说，它的少数载流子是电子，而当基极电压高于发射极，有电流注入时，发射结正偏导通，发射区向基区扩散大量电子。这些电子在内电场的作用下漂移到c极。从三极管外部看来，电流能通过反偏的集电结，其实，要分清楚“多子”、“少子”的区别。p型半导体的多子是空穴，少子是自由电子；n型半导体的多子是自由电子，少子是空穴。 2、为什么集电极要加上很高的电压？答：电压高能使集电结的内电场更强，作用在少子上的力更大，有利于少子、尤其是从基区漂移到发射区的电子；同时阻止多子的通过。
3、为什么基区要做得很薄？答：因为少子越贴近内电场，就越容易受其作用漂移到pn结对面。如果做得太厚，那进入基区的电子就不能很好地受内电场的作用，不能很好地漂移到集电区，所以要从生产工艺上把它做得很薄，厚度一般在几个微米至几十个微米。
4、为什么发射区的掺杂浓度最高？答：发射区掺杂浓度高才有更多的多数载流子，p型半导体中的多子是空穴，而 npn型半导体的发射区是n型半导体，掺杂浓度高使其有更多的自由电子，这样在 基极和发射极的电压差（基极高于发射极）作用下，才有更多电子扩散到基区。假设发射区的掺杂浓度和基区浓度相同，那么扩散到基区的电子绝大多数会跟基区的 空穴进行复合掉，电流的放大能力下降。
5、放大倍数β如何确定？答：在生产过程中，控制基区的厚度和各个区的掺杂浓度，就能生产出不同放大倍数β的三极管。
6、基极（b极）小电流如何控制集电极大电流？答：当基极没有电流的时候，集电结几乎没有电子通过；基极电流慢慢增大时，集电结在正偏电压作用下，多子逐渐激烈地向基区扩散。由于基区掺杂浓度低，扩散 到集电区的多子少，需要外部注入的电流小。发射区掺杂浓度高，扩散到基区的多子多，需要外部注入的电流大。放大倍数跟基区厚度、发射区掺杂浓度成正比。发射极跟基极复合的电子非常少，主要被集电结的内电场拉到集电区，集电极电流近似于发射极电流。外部注入基极电流越大，发射区到基区的电子扩散就越激烈，漂移到集电区的电子也越多。在三极管的外部看来，发射极电流和集电极电流也急剧增大。
7、用两个二极管可否焊接成一个三极管？答：虽然两个二极管能结成一个npn或pnp型的三极管，但其内部硅晶体的掺杂浓度不同于三极管，再者“基极”没能做得很薄，漂移过“集电结”的少子相当少（不是没有），因此发射极中的载流子几乎不能到达集电结。