抛光处理技术问答

发布时间:2024-04-02
抛光处理技术问答。抛光常见疵病产生原因及解决方法
(1)工房环境不洁净→做好“5s”工作
(2)抛光材料(抛光胶或聚胺脂及粘贴胶等)不洁→保管好所需用品
(3)抛光粉粒度不均匀或混有大颗粒机械杂质→选用粒度均匀和与玻璃材料对应抛光粉
(4)擦布不洁及操作者带入灰尘→擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子
(5)抛光材料(抛光胶或聚胺脂)偏硬、使用时间长表面起硬壳或边缘有干硬堆积物→选用合适抛光材料(抛光胶或聚胺脂),周期更换,对改或修刮抛光模
(6)抛光模与镜盘不吻合→对改或修刮、重新制作抛光模
(7)辅助工序(去盘、清洗、周转、保护漆未干等)造成→按各辅助工序操作规程加工
(8)精细磨划痕未抛掉或清洗不*→应自检
(9)检查光圈工件或样板不干净、方法不当→正确使用样板
光圈变形
(1)光圈未稳定既去盘→应按工件大小给予一定的光圈稳定时间
(2)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形)→刚盘定期进行检测和修正
(3)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等→严格按工艺和上盘操作规程加工
(4)粘结胶粘结力不适→光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法
印迹,多产生于化学稳定性较差的玻璃,添加剂的作用主要是在稳定抛光液ph值的同时也增加了镜片表面残留的一些憎水性物质,增强镜片的耐水性。除添加剂外还应尽量减少加工过程中热量的产出。
(1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹→选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合
(2)玻璃化学稳定性不好→抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆
(3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净→避免对着工件讲话,如盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干
麻点:
(1)精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分→精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作
(2)抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率→更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、ph值等)周期性管理
(3)有粗划痕抛断后的残迹→发现后应作出标识单独摆放或重抛
(4)零件在镜盘上由于加工造成走动→选用适当的粘结胶,控制工序温度和镜盘忽冷忽热,粘结胶厚度应符合标准
(5)精细磨、抛光时间不够→精细磨应除去上道粗砂眼,抛光时间应足够
(6)精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大→精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工
(7)方形或长方形细磨后塌角→用开槽平模细模、添加砂要均匀
上一个:手持式土壤检测仪(手持式土壤检测仪详细介绍)
下一个:安全带的使用方法及标准有哪些?

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