hmds烘箱结构，hmds涂布机原理
hmds，即六甲基二硅胺，是半导体光刻工艺中一种常见的耗材。hmds是一种易挥发的化学品，传送到工艺腔的hmds是以气态形式存在的，其均匀附着在晶圆表面，形成hmds膜层。
hmds烘箱结构，hmds涂布机原理
现有技术中，涂布过程一般先在氮气的保护下对晶圆进行加热，同时通入hmds进行涂布，但由于前期氮气的通入，为了保证hmds的浓度及扩散效果，必须增加hmds的通入量，才能使其浓度达到一定范围，这样势必造成hmds的浪费，且hmds为有害气体，过高浓度的排放会对环境造成严重破坏。
hmds烘箱，hmds涂布机技术参数
工作室尺寸
350×350×350、450×450×450、850×850×850（mm）可自定义
材质
外箱采用冷轧板喷塑或304不锈钢，内箱采用316l医用级不锈钢
温度范围
rt+10-250℃
真空度
≤133pa（1torr）
洁净度
class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境
控制仪表
人机界面
搁板层数
2层
hmds控制
可控制hmds药夜添加量
真空泵
旋片式油泵（可选配进口无油泵）
保护装置
hmds低液位报警，hmds自动添加，超温保护，漏电保护，过热保护等