常用的射频等离子设备有三种刺激頻率:刺激頻率为40khz的等离子技术为超声波等离子技术，13.56兆赫兹的等离子技术为射频等离子技术，2.45ghz的等离子技术为微波等离子技术。由于超声波等离子技术产生的自偏压不同，超声波等离子技术的自偏压约为1千伏，射频等离子技术的自偏压约为250伏，微波等离子技术的自偏压极低，三种等离子技术的机理也不同。
超声射频等离子设备技术的反應是物理反应，射频等离子技术设备的反應是物理和化学反应，而微波等离子技术的反應是化学反应。超声等离子清洗对清洗表面影响很大，所以在实际的半导体生产应用中，多选用射频等离子设备和微波等离子清洗。超声等离子技术对等离子技术表面进行物理清洗，除胶、毛刺磨光等，具有很好的物理清洗(效)果，典型的rf等离子技术设备是在反應室中加入ar用作輔助处置的等离子技术清洗，而ar自身是稀有气体，等离子技术ar不与表面反应，而是通过离子体轰击来清洗表面。
射频等离子设备技术选用rf电源，也就是说，我们的射频等离子设备和rf等离子设备的区别在于它们所使用的匹配电源。rf是高频交流变化电磁波的射频电流量。低頻率电流量被称作1秒一千次的交流电压，超过一万次的称之为高频电流量，射频就是这种高频电流量。这样区分这两种设备就很容易了。